硅片清洗剂
作者：admin 日期：2014-10-20 15:46:22 人气：
典型工艺流程：
①DIW预清洗→DIW预清洗→DY-100清洗剂→DY-100清洗剂→DIW清洗→DIW清洗→干燥
②DIW预清洗→DIW预清洗→DY-100清洗剂→DY-100清洗剂→DIW清洗→DIW清洗→DIW清洗→DIW清洗→干燥
工艺说明：
①温度范围：50-65℃
②清洗时间：4-8min
③清洗功效：本产品由弱碱和表面活性剂组成，不易腐蚀硅片表面，清洗用量小，表面无残留。
①DIW预清洗→DIW预清洗→DY-100清洗剂→DY-100清洗剂→DIW清洗→DIW清洗→干燥
②DIW预清洗→DIW预清洗→DY-100清洗剂→DY-100清洗剂→DIW清洗→DIW清洗→DIW清洗→DIW清洗→干燥
工艺说明：
①温度范围：50-65℃
②清洗时间：4-8min
③清洗功效：本产品由弱碱和表面活性剂组成，不易腐蚀硅片表面，清洗用量小，表面无残留。